大地影視中文資源6是一家專注于分析檢測行業(yè)的系統(tǒng)性供應(yīng)商，一直致力于分析測試技術(shù)方面進口儀器的配件耗材供應(yīng)，主要優(yōu)勢經(jīng)銷代理品牌：美國賽默飛世爾（ThermoFisher）原裝配件耗材（比如：ICP光譜,ICP-MS質(zhì)譜,AAS原子吸收光譜, GC-MS氣質(zhì),LC-MS液質(zhì),ARL直讀光譜ARL3460,ARL4460,ARLiSpark8820/8860/8880）,9800/9900X熒光光譜，同位素質(zhì)譜，紅外光譜等儀器備件），珀金埃爾默（PerkinElmer）耗材，美國安捷倫（Agilent）耗材，美國沃特世（Waters）耗材，戴安（DIONEX）色譜耗材，島津（SHIMADZU）耗材，瑞士萬通（Metrohm），CEM耗材等。
4035 273 12631賽默飛FEI掃描電鏡配件耗材代理拔出極
賽默飛FEL 部分配件耗材
16830 離子源
4035 273 12631 拔出極
4035 273 6 7441 光闌
4035 272 35991 抑制極
4035 272 35971 拔出極
1058129 拔出極
1301684 Suppressor 抑制極
1096659 Aperture 光闌
1346158 PT
環(huán)境掃描電鏡
Thermo Scientific Prisma E 掃描電鏡 (SEM) 結(jié)合了廣泛的成像和分析模式以及*自動化功能，和同類儀器相比，可提供最完整的解決方案。對于工業(yè)研發(fā)、質(zhì)量控制和失效分析應(yīng)用領(lǐng)域，需要一臺具有高分辨成像，廣泛的樣品兼容性，簡單易用的用戶界面的掃描電鏡，Prisma E是這類應(yīng)用的理想選擇。Prisma E是在前代Quanta SEM基礎(chǔ)上的又一次成功實踐。
全面的性能，強大的附近擴展能力，以及結(jié)合Thermo Scientific ChemiSEM 技術(shù)所實現(xiàn)最直觀的元素分析能力，使Prisma E在任何行業(yè)或領(lǐng)域都能夠?qū)崿F(xiàn)微米/亞微米級成像和分析。
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主要特點
通過選配ChemiSEM 技術(shù)和集成能量色散 X 射線光譜 (EDS) 進行實時成分面分布以實現(xiàn)直觀元素分析。這種始終在線的分析能力可極大提高您的工作效率，并獲取最完整的樣品信息。
靈活的真空模式以及通過透鏡抽真空技術(shù)，使Prisma E可在低電壓和低真空下獲得出色的圖像質(zhì)量。且在每個操作模式下，都可實現(xiàn)二級電子 (SE) 和背散射電子 (BSE) 同時成像。
低真空和ESEM 功能可對非導(dǎo)電和/或含水樣品進行無電荷/或無脫水成像和分析。
憑借Prisma E 的環(huán)境 (ESEM) 模式、可在樣品加熱、放氣或潮濕的狀態(tài)下直接成像。
倉室支持最多安裝3 個 EDS 探測器，其中兩個EDS接口呈180° 對稱，并可安裝波長色散光譜 (WDS)、共面 EDS/EBSD，并可在低真空模式下實現(xiàn)高質(zhì)量無電荷 EDS 和 EBSD 分析。
易于使用
操作軟件具有用戶指南和撤消功能，可以使新手用戶進行高效的操作，也可極大減少專家級用戶的操作負荷。
規(guī)格
參數(shù) | · 分辨率在高真空、低真空和ESEM 的 30 kV 下為 3.0 nm · 在3 kV（BSED、樣品臺減速）下為 7.0 nm |
標準檢測器 | · ETD、低真空 SED (LVD)、 ESEM SED (GSED)、紅外CCD |
可選檢測器 | · Thermo Scientific Nav-Cam+ 攝像機、DBS、DBS-GAD、ESEM-GAD、STEM 3+、WetSTEM、RGB-CLD、EDS、EBSD、WDS、拉曼、EBIC 等 |
ChemiSEM 技術(shù)（可選） | · 可基于能量色散X 射線光譜 (EDS) 進行實時定量 元素面分布。包含點分析、線掃描、面分布及元素定量。 |
樣品臺減速（可選） | · -4,000 V 至 +50 V |
低真空模式 | · 高達2,600 Pa (H2O) 或 4,000 Pa (N2) |
樣品臺 | · 5軸馬達優(yōu)中心樣品臺，110 x 110 mm2，105° 傾斜范圍。最大樣品重量：未傾斜位置，5 kg。 |
標準樣品支架 | · 標準多樣品SEM 支架可單獨安裝 · 在載物臺上，可容納多達18 個標準樣品托 (? 12 mm)， · 無需工具即可安裝樣品 |
樣品倉 | · 340 mm 內(nèi)寬，12 個接口，最多可接三個 EDS 檢測器（兩個呈 180°對稱），并具有與共面 EDS共面的EBSD接口。 |
原位配件（可選） | · 軟件控制的-20°C 至 +60°C Peltier 冷臺 · 軟件控制的1,000°C 低真空/ESEM 熱臺 · 軟件控制的1,100°C 高真空熱臺 · 軟件控制的1,400°C 低真空/ESEM 熱臺 · 集成氣體注入系統(tǒng)：用于下列材料的電子束誘導(dǎo)沉積，最多支持2種氣體（其他配件可能限制可用的注氣系統(tǒng) (GIS) 數(shù)量）： o 鉑 o 鎢 o 碳 · 納米機械手 · 液氮致冷臺 · 電子探針/多探針臺 |
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